Shaanxi Yunzhong Industrie Development Co., Ltd
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Ziel

Source: Sputtertargets


Magnetron Sputtern Beschichtung ist eine neue Art von körperlichen Dampf Abscheidungsverfahren, verglichen mit den früheren Verdunstung Beschichtungsverfahren, seine Vorteile liegen auf der Hand. Als eine ausgereifte Technologie wurde das Magnetron-Sputtern in vielen Bereichen eingesetzt.


Magnetron Sputtern Ziel:


Metall-Legierung Sputtertarget, Sputtertargets, keramische Sputtertarget Borid Keramik Sputtern Hartmetall Keramik Sputtern Fluorid Keramik Sputtern Nitrid keramische Oxid Keramik Ziel Sputtern, metallisches Keramik Keramik silizid Sputtern Sulfid Keramik Sputtern Telluride Keramik Sputtern anderen keramischen Target-Sputtern Chrom dotiertem Silizium-Oxid Keramik Ziel (Cr-SiO), Indium Phosphid (InP), das Ziel von Arsen Blei Ziel (PbAs), InAs Ziel (InAs).


Hohe Reinheit und hohe Dichte Konstruktion Ziel ist:


Sputtertargets (Reinheit: 99,9 % - 99,999 %)


1 Metall-Ziel:

Ziel, Ni, Nickel-Titan-Target, Ti, Zn, Cr, Zn, Mg, Cr, Ziel Mg, Ziel Nb, Ziel, Ziel-Niob-Zinn, Sn, Aluminium-Ziel und Al Ziel, In Eisen und Indium Ziel, Fe, Ziel, ZrAl, Zr Al Ti und Al Ziele, TiAl, Zirkonium Ziel Zr, AlSi, Silizium Aluminium Silizium Ziel, Ziel Ziel Cu, Ziel T Kupfer, Tantal Ziel, Ge, Si, Ge, Ag , Kobalt Silber Target Ziel, Co, Au, Gd, goldene Ziel, Ziel Gd, Ziel La, Ziel Yttrium, Lanthan, Cerium, Ziel, Ce, Y Wolfram Ziel, W, Edelstahl, Nickel Chrom Zielen, Ziel, Ziel und Hf, NiCr, Hafnium Molybdän Ziel und Mo Ziel, FeNi, Eisen-Nickel, Wolfram Ziel, W etc...


2 Keramik-Ziel


Magnesiumoxid ITO Ziel, Ziel, Ziel, Ziel, Eisenoxid, Siliziumnitrid, Titannitrid, Silizium-Karbid Target Ziel Ziel, Ziel, Zinkoxid Chrom, Zinksulfid, Kieselsäure Target Ziel Ziel, ein Silizium-Oxid Cerium-Oxid Ziel, zwei Zirkonia Ziel, fünf Oxidation zwei Niob Ziel und Titandioxid-Ziel, zwei Zirkonia Ziel, zwei das Ziel von Hafnium Oxid, Zirkonium Borid Titanium Diboride Ziele, zwei Ziel , Ziel zwei Aluminiumoxid Wolfram Trioxid Ziel drei fünf zwei fünf zwei Tantal Oxid, Oxid, Magnesiumfluorid, Niob Target Ziel Ziel Ziel, ZnSe Yttrium Fluorid, Aluminium-Nitrid Ziel, Silizium-Nitrid Bornitrid Target, Ziel, Ziel von Titannitrid, Silizium-Karbid-Ziel und Lithium Niobat Ziel, Ziel, Ziel-Titanat-Praseodym-Barium-Titanat, Lanthan Titanat Ziel, Nickel-Oxid Ziel, Sputtern Ziel etc....


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